化學鎳漏鍍是工藝過程中比較常見的問題，涉及原因多種多樣，今天我們來聊一聊排除前處理的前提下，藥水太穩定導致漏鍍的問題是什么原因造成的，該怎么解決？

 

漏鍍的原因-藥水過于穩定

 

一、穩定劑的作用

穩定槽液，不易分解

控制鍍速

確定鍍層特性

二、穩定劑的種類

1、有機硫

加速鍍速

使化學鎳槽液更多容納重金屬  (如. 鎘，鉛，鉍，銻等 )

穩定 槽液

用于控制鍍層磷的水平

 

2、重金屬

強大的穩定劑，防止分解

光亮

 

3、其他穩定劑 (如碘化鉀，碘酸鉀，雜環化合物等)

穩定槽液，防止上槽

 

三、穩定劑的消耗

1、穩定劑比鎳消耗得快很多

2、一般是 10% 的鎳消耗 ， 40% 的穩定劑消耗.

四、穩定劑濃度與鎳消耗量對比

 

五、穩定劑過高的原因

承載量太小

濃度控制不穩定-補加過量

槽液pH，溫度走下限，積累過多

配方設計問題，有機硫不夠

 

六、金屬穩定劑的消耗與和有關

承載量-受鍍面積(越大消耗越快)

槽液濃度(越低消耗越快)

槽液pH，(越接近上限越快)

溫度 (越高越快)

 

七、漏鍍的應對方法

1，先稀釋--避免浪費

2，拉高參數-溫度和PH

3，大面積的貨拖缸

4，漏鍍消失后，少量多次，慢慢加高濃度

5，打出的藥水可慢慢補回來

 

以上便是藥水太穩定導致化學鎳漏鍍的原因分析，我們可以通過以上步驟解決，先稀釋藥水，再拉高參數-溫度和PH，再進行大面積的貨拖缸、接著少量多次加高濃度，最后打出的藥水可慢慢補回來。

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